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等離子體處理設(shè)備有哪些

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2023-04-25 15:04【
文章導(dǎo)讀:等離子體處理設(shè)備是利用等離子體對物品進(jìn)行處理,解決表面難題的設(shè)備;設(shè)備運(yùn)行時(shí),腔體內(nèi)部產(chǎn)生高能電場,氣體被電離成等離子體,等離子體有良好導(dǎo)電性與產(chǎn)品接觸反應(yīng),帶來物理、化學(xué)等多種變化,達(dá)到清洗、活化、刻蝕等多種目的。
等離子體處理設(shè)備也叫等離子清洗機(jī)主要解決材料表面問題,例如:產(chǎn)品粘接力不夠、產(chǎn)品親水性差、產(chǎn)品噴漆效果差等等;除了解決表面改性的問題,還能清洗微顆粒污染物、氧化物等物質(zhì),通過特殊工藝給產(chǎn)品進(jìn)行鍍膜,通過腐蝕性氣體對產(chǎn)品進(jìn)行刻蝕等等應(yīng)用,設(shè)計(jì)的行業(yè)以及領(lǐng)域非常多。
等離子體處理設(shè)備
等離子體處理設(shè)備類型
1. 等離子體清洗設(shè)備:利用等離子體對表面進(jìn)行清洗和去污的設(shè)備,可以去除表面的有機(jī)物、金屬氧化物、氧化鐵等污染物。
2. 等離子體刻蝕設(shè)備:利用等離子體對材料表面進(jìn)行刻蝕的設(shè)備,也就是腐蝕表面形成如線路圖等形狀,可以進(jìn)行微細(xì)加工和制造。
等離子體處理設(shè)備
3. 等離子體鍍膜設(shè)備:利用等離子體與材料進(jìn)行反應(yīng),在物體表面形成膜,均勻的覆蓋在產(chǎn)品上,可以制造具有特殊功能的材料表面。
4. 等離子體增強(qiáng)設(shè)備:利用等離子體對材料表面進(jìn)行改性的設(shè)備,可以提高材料的硬度、抗磨性、耐腐蝕性等性能。
等離子體處理設(shè)備有哪些
等離子體處理設(shè)備種類非常多,同時(shí)設(shè)備非標(biāo)品較多,很多都是根據(jù)工藝進(jìn)行定制,所以要根據(jù)自己時(shí)間使用需求進(jìn)行產(chǎn)品選擇。設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、新能源、高分子、醫(yī)療器械、汽車制造等多個(gè)行業(yè)中。                                                                                                                                          

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    1)能有效去除大于3μm的顆粒
    2)不需要高純水和化學(xué)藥劑等,同時(shí)不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設(shè)備維護(hù)簡單,只需進(jìn)行簡單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
    5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
    6)閉環(huán)系統(tǒng)不會(huì)破壞生產(chǎn)車間(潔凈室)的氣流平衡

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    ‌實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)‌是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行表面處理的設(shè)備,廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)制造領(lǐng)域。

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    真空等離子清洗機(jī)作為一種高效、無介質(zhì)的表面處理設(shè)備,具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng),具有高效清洗、無介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動(dòng)化操作等優(yōu)勢。

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    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無需使用化學(xué)溶劑,減少廢水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會(huì)對材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過程‌。


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