臺積電或?qū)⒃?022年量產(chǎn)3nm工藝，普樂斯等離子清洗機
文章導讀：普樂斯等離子清洗機根據(jù)C114、網(wǎng)易科技相關(guān)內(nèi)容，今年臺積電技術(shù)論壇以線上形式舉辦，臺積電總裁魏哲家在此次論壇上透露了臺積電的半導體制程規(guī)劃，或?qū)⒃?022年下半年量產(chǎn)3nm。
普樂斯等離子清洗機根據(jù)C114通信網(wǎng)、網(wǎng)易科技相關(guān)內(nèi)容，今年臺積電技術(shù)論壇以線上形式舉辦，臺積電總裁魏哲家在此次論壇上透露了臺積電的半導體制程規(guī)劃，或?qū)⒃?022年下半年量產(chǎn)3nm。
在論壇上，魏哲家先生表示，臺積電的7nm晶圓出貨量已達到10億顆里程碑，在7nm工藝量產(chǎn)1年后，臺積電又推出了強xiao版7nm工藝即導入EUV；5nm工藝目前也正在加速量產(chǎn)，預計2021年，強xiao版5nm工藝也將量產(chǎn)。對應的5nm工藝速度會比7nm提升15%，功耗下降30%，電晶體密度提升80%。據(jù)了解，4nm工藝也是在5nm工藝的基礎上，并且或?qū)⒃诿髂晁募径乳_始量產(chǎn)。
明年，臺積電還將對3nm工藝進行試產(chǎn)，預計可將在2022年下半年，正式量產(chǎn)3nm工藝。與當前的5nm工藝相比，3nm的工藝速度可再次提升15%，功耗下降30%，電晶體密度提升70%。除3nm工藝的消息外，臺積電方面表示也已經(jīng)啟動2nm全新制程的研發(fā)。
本文來源：C114通信網(wǎng)、網(wǎng)易科技
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普樂斯從2011年開始涉足半導體行業(yè)至今已有9年，專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗，合作客戶接近20家，我們正努力成為半導體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。等離子表面處理過的樣品包括：硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！
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